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簡要描述：多功能光催化反應(yīng)儀GHX-AC多試管小容量，光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱為光化學(xué)反應(yīng)釜，多功能光化學(xué)反應(yīng)器，多催化反應(yīng)儀。主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測定反應(yīng)動力學(xué)常數(shù)，測定量子產(chǎn)率等功能，應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2023-11-11訪 問 量：2043產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥,綜合 |
多功能光催化反應(yīng)儀GHX-AC多試管小容量技術(shù)參數(shù)
（一）主體部分：1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。
2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
（二）小容量反應(yīng)部分：1.石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）。
2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品（或定做）。
3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。
（三）大容量反應(yīng)部分：1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。
2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。
（四）控溫裝置1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W。
2.控溫范圍：-5°C到100°C
3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。
多功能光催化反應(yīng)儀GHX-AC多試管小容量
光化學(xué)反應(yīng)儀操作說明
操作說明：
1、準(zhǔn)備工作：連接電源。使用該儀器前首先把八位反應(yīng)器（或磁力攪拌器）放入主機(jī)箱內(nèi)，石英反應(yīng)管（或反應(yīng)容器）內(nèi)放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈（氙燈）、反應(yīng)器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好。（如下圖連接）
2、反應(yīng)暗箱內(nèi)設(shè)有八位反應(yīng)器（或磁力攪拌器）和燈的電源接口，請按指示連接。
3、配備進(jìn)口高壓泵：配管尺寸較長，可平穩(wěn)的進(jìn)行長距離循環(huán)、冷卻或恒溫機(jī)外實(shí)驗(yàn)容器或建立第二恒溫場。
4、高密度耐腐蝕材料：可循環(huán)純水的循環(huán)泵、冷卻盤管、吐出口、回流口的關(guān)鍵接口都采用不銹鋼（SUS304）制造。
5、循環(huán)介質(zhì)類型：硅油、水、鹽水、純酒精等實(shí)驗(yàn)室常用循環(huán)介質(zhì)。
反應(yīng)暗箱：
主體箱是放置系列光化學(xué)反應(yīng)儀光照裝置的地方，具有以下特征：
1、箱體內(nèi)部為黑色，以降低光反射。
2、箱體后部有冷卻水進(jìn)出口。
3、調(diào)節(jié)控制器上面的光光源功率旋鈕，使所使用光源功率處于zui大狀態(tài)，這樣利于燈管激亮。
4、依次打開控制器上面的風(fēng)扇開關(guān)、反應(yīng)器和燈開關(guān)，風(fēng)扇開始工作（反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開始外排。
5、打開八位反應(yīng)器（或磁力攪拌器）上面的電源開關(guān)，按需調(diào)節(jié)攪拌速度。
6、光源功率調(diào)節(jié)位于控制器中心位置，可按需調(diào)節(jié)光源功率大小。
7、控制器右上方設(shè)有微電腦定時(shí)器，可按需設(shè)置工作時(shí)間。
注：無論使用汞燈或氙燈做實(shí)驗(yàn)時(shí)，必須將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用（建議同時(shí)配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用，避免溫度過高造成儀器損壞）。
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